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荷蘭推 DUV 光刻機“出口管制”?ASML 最新回應聲明來了

來源:每日經(jīng)濟新聞 發(fā)表時間:2023-07-01 08:19:32
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【資料圖】

每經(jīng)記者:朱成祥 每經(jīng)編輯:魏官紅

6 月 30 日,關于荷蘭政府頒布最新半導體設備出口管制條例的相關內(nèi)容,ASML 方面向《每日經(jīng)濟新聞》記者提供了一份聲明。

聲明顯示,2023 年 6 月 30 日——荷蘭政府頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。正如其在今年 3 月發(fā)布的消息中所述,這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術,包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

根據(jù)新出口管制條例規(guī)定,ASML 需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式 DUV 系統(tǒng)(即 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證,并將向 ASML 提供許可證所附條件的細節(jié)。

ASML 方面表示,公司的 EUV 光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制。ASML 其他光刻系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。公司將繼續(xù)遵守適用的出口管制條例,其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

此外,荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于 2023 年 9 月 1 日生效,在此日期前,ASML 可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。

基于今日(6 月 30 日)的公告,ASML 認為這些管制條例不會對已發(fā)布的 2023 年財務展望以及于 2022 年 11 月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大影響。

需要重點指出的是,荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù)推出的浸潤式系統(tǒng)。此外,ASML 長期展望的基礎是全球的長期需求和技術趨勢。

每日經(jīng)濟新聞

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